1.UV光解廢氣處理器簡述

UV光解廢氣處理器是指利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧（即活性氧），因游離氧所攜帶正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧，臭氧具有很強(qiáng)的氧化性，通過臭氧對(duì)有機(jī)廢氣、惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同光解氧化作用，使有機(jī)廢氣、惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳。

2.UV光解廢氣處理技術(shù)原理

（1）利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

（2）利用高能UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜帶正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧對(duì)有機(jī)物具有很強(qiáng)的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。

（3）有機(jī)廢氣、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到UV光解廢氣凈化設(shè)備后，UV光解廢氣凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。

（4）利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到有效脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

3.UV光解廢氣處理器優(yōu)勢

（1）高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味氣體，脫臭效率可達(dá)到95%以上，脫臭效果超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)。

無需預(yù)處理：有機(jī)氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-11范圍均可正常工作。

（2）無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體以及工業(yè)廢氣通過UV光解廢氣凈化設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

（3）適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)中低濃度，不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭、凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

（4）運(yùn)行成本低：無任何機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

（5）安全可靠：因采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防爆、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于采油(氣)田、石油化工、制藥等防爆要求高的行業(yè)。

4.UV光解廢氣處理器應(yīng)用范圍

印刷、印染、電子、塑料、涂料、噴涂、家具、橡膠、化工、造紙、皮革、制藥、食品加工、飼料、屠宰、污水處理、垃圾分揀及中轉(zhuǎn)等行業(yè)及領(lǐng)域的惡臭氣體、工業(yè)廢氣的凈化處理。